Характеристики и описание
- Производитель
- Страна производительФранция
Описание:
В данной серии имплантеров реализован метод плазменной ионной имплантации методом имплантации из плазмы.
Применение: исследования и разработки, сфера наноэлектроники и нанотехнологий, там где требуются высокие дозы и низкие энергии имплантации.
Одна из конфигураций - PULSION Nano – разработана для таких приложений, как нанокристаллы, разработка подложек, солнечные элементы, high K и др.
Технические характеристики:
|
Диапазон энергий |
Стандартно: 20В-10кВ, опционально: до 50кВ. |
|
Подложко-держатель |
200-300мм; Возможность применения адаптер для пластин меньших диаметров (размеров). |
|
Рабочая камера |
1 или 2 шт, камера совместима с подложками до 450 мм. |
|
Компоненты |
3 SDS линии : BF3, B2H6, PH3, AsH3 Одна линия для газа под давлением: Ar или N2, O2, H2, He2 Дооснащение: 2 дополнительные линии опционально: SiH4, SiF4, CH4 |
Особенности:
- Ультранизкие энергии: менее 20эВ (!).
- Универсальность, заключающаяся в уникальной комбинации свойств: широкий диапазон энергий, шкала токов и газов для различных приложений.
- Небольшие габариты: установка занимает от 4 до 9 кв.м.
Доставка
Оплата и гарантии