Системы Applied AKT-PiVot 55KDTPVD, Applied AKT-PiVot 25KDTPVD и Applied AKT 55KSPECVD укрепляют лидерство компании Applied в сфере изготовления пленок оксидов металлов (МО) и технологиях для изготовления небольших, более быстрых тонкопленочных транзисторов (TFT), необходимых для создания дисплеев с высоким разрешением. Благодаря разработкам прецизионных материалов и внедрению инноваций, эти системы являются оптимальным и экономичным решением для объемного производства дисплеев следующего поколения.

Системы PVT AKT-PiVot 55K DT PVD и 25K DT PVD производят осаждение критических слоёв пленки, которые создают тонкоплёночные транзисторы (TFT) и меж соединения на стеклянных листах размерами 2200 мм x 2500 мм и 1500 мм х 1850 мм для плоских панельных дисплеев, поддерживая несколько технологических дорожек для производства телевизоров с большой диагональю или энерго эффективных экранов для мобильных устройств. Высокая однородность, превосходные характеристики зёрен и стабильность работы AKT-PiVot позволяют производителям создавать более быстрые и с меньшими габаритами транзисторы для дисплеев с ультравысоким разрешением (UHD) с большей частотой обновления.

Используя систему PiVot, производители дисплеев могут перейти от применения алюминиевых к медным меж соединениям для того, чтобы добиться более быстрого откликапикселя и более низкого энергопотребления в панелях LCD-телевизоров нового поколения и дисплеях мобильных устройств. Ключом к совершенному качеству пленки системы PiVot является её запатентованная конструкция вращающегося катода, в которой используется уникальная технология модуляции осаждения для осаждения медных слоев с равномерным распределением зерен, низким удельным сопротивлением и однородностью по толщине.