Система плазмохимического осаждения из паровой фазы (PECVD)

Система плазмохимического осаждения из паровой фазы (PECVD) - линия для разработки и исследований материалов и устройств на основе аморфного, микрокристаллического и протокристаллического кремния.

Поточные системы PECVD

• Нанесение легированных и нелегированных материалов и сплавов на основе аморфного и микрокристаллического кремния
• Отдельная рабочая камера, отделенная при помощи изолирующей камеры с входным и выходным шлюзом с обоих сторон
• Размер подложки по выбору клиента
• Вертикальное / горизонтальное напыление
• Полу- / полностью автоматические
• Источник питания: СВЧ / ВЧ
• Температура подложки до 250 оC

 

Кластерные системы PECVD

• Нанесение легированных и нелегированных материалов и сплавов на основе аморфного и микрокристаллического кремния
• Отдельная рабочая камера, подключенная к центральной шлюзовой камере / изоляционной камере, с входным / выходным шлюзом, подсоединенным к шлюзовой камере
• Перемещения подложки: магнитная рука или робот
• Размер подложки до 300мм x 300мм
• Горизонтальное напыление
• Полу- / полностью автоматические
• Источник питания: СВЧ / ВЧ
• Температура подложки до 250 оC

 

 

Мультимагнетронная система распыления

Мультимагнетронная система распыления обеспечивает контакт к тыльной поверхности и защищает слой a-Si, наносимый в системе PECVD. Целью такого нанесения является обеспечение нормального контакта с тыльной поверхностью и защита слоя a-Si, наносимого в системе PECVD.

 

 

• Нанесение металла (Ag, Al и т.д.), прозрачных токопроводящих оксидов (ITO, ZnO, и т.д.)
• Вертикальное / горизонтальное распыление
• Размер подложки по выбору клиента
• Плоский / поворотный магнетрон
• Полу- / полностью автоматические
• Источник питания: DC /ВЧ
• Температура подложки до 350 оC

 

 

Система очистки стекла

Установка для мытья стекла представляет собой горизонтальную конвейерную систему очистки при помощи щеток.

• Горизонтальная конвейерная очистка при помощи щеток
• Многоступенчатая очистка и сушка
• Размер подложки по выбору клиента
• Толщина стекла может быть от 2 мм до 4 мм
• Высокая производительность
• Система контроля при помощи ПЛК

 

 

Лазерная разметочная машина

 

 

Используется для нанесения разметки P1, P2, P3 и обрезки краев
Зеленый (532 нм) и ИК ( 1064 нм) лазер
Высокоскоростной гальванометр для обрезки краев
Автоматическое выравнивание при помощи камеры наблюдения
Лазер можно настроить для достижения необходимой ширины разметки в диапазоне от 80 до 120 микрон
Изменяемый размер подложки
Нанесение разметки перемещением держателя подложки по X-Y

 

 

Ламинаторы модулей

Солнечные модули необходимо защищать от воздействия окружающей среды, для этого их ламинируют специальным органическим веществом. Использование вакуума во время ламинации помогает удалить все молекулы воздуха, которые в противном случае могут остаться в модуле.

 

 

Полный цикл ламинации автоматизирован на нагрев в вакууме, при помощи программируемого логического контроллера с микропроцессором. В человеко-машинном интерфейсе для отображения текущего процесса имеется панель с мнемонической схемой. Автоматическая система также оснащена ручным устройством для управления всей системой в ручном режиме с использованием кнопочных переключателей на передней панели. Система оснащена всеми необходимыми предохранителями для защиты самой системы и оператора.

• Ламинация модуля стеклом / Tedler или стеклом / комбинированным стеклом
• Рабочая температура цикла ламинации составляет 150°C с равномерностью ±2°C.
• Изменяемый размер подложки