Описание:

Установка осаждения диэлектриков . Эта PECVD -система предназначена для осаждения на подложки следующих пленок: SiO2, Si3N4, SixNy

Камера нанесения основана на концепции высокотемпературного изотермического реактора, находящегося внутри вакуумной камеры. Во время процесса PECVD давление в вакуумной камере намного ниже, чем в реакторе. В результате не происходит загрязнения наносимой пленки диэлектриков кислородом от холодных стенок камеры.

Плазменный реактор имеет круглую форму диаметром 250 мм и позволяет располагать пластины диаметром до 200 мм (или 2 пластины по 100 мм). Газовый душ способствует высокоравномерному распылению газа на пластине. Используемые газы равномерно накачиваются вокруг подложкодержателя. Plasma Box окружен двумя нагревающими кабелями. ИК-рефлекторы позволяют избежать потери тепла. В результате подложкодержатель и реактор оказываются в печи с контролем температуры подложки ±1°C.

 

Включает в себя следующие части:

• Контроллер Eurotherm 2408 и термопара позволяют производить нагрев подложки до 325°C. Симметричный дизайн реактора позволяет проводить бомбардировку пластины ионами с достижением минимального стресса.
• Плазменный реактор изготовлен из алюминия, что позволяет избежать коррозии при травлении для чистки. Специальное окно позволяет использовать лазерный рефлектометр для определения скорости осаждения и толщины пленок.
• Насосную систему , которая включает :
  • насос № 1: ALCATEL ADP 122 P со скоростью откачки 95 м³/ч,
  • насос № 2 : ALCATEL турбомолекулярный (100 л/с) с продувкой( N2),
  • набор клапанов для дополнительного вакуумного кольца защиты камеры в случае избыточного давления N2 и чистки камеры травлением,
  • измеритель высокого вакуума Penning ,
  • измеритель вакуума T20 - 2 Torr для контроля вакуума в реакторе и камере.
• Электронные контроллеры для проведения процесса
• Высоко- и низковольтные источники питания (220 VAC и 400 VAC) и (5 V , +15 V , -15 V и +24 V ).
• Газовую панель с семью линиями (максимум 9 линий) для реактивных газов с расходомерами UNIT . Стандартные MFCs 50 sccm O2 , 200 sccm SF6 , 1000 sccm N2 , 1000 sccm He, 500 sccm NH3 , 500 sccm N2O и 100 sccmSiH4 .
• Охлаждаемый ВЧ-генератор 300 W 13.56 MHz .
• Программное обеспечение COSMA , работающее на LINUX, включающее в себя:
  • автоматическое переключение между шагами в мультишаговых процессах в соответствии с сигналами от датчика окончания процесса или таймеров. Число шагов каждого процесса может достигать 300. Число самих процессов ограничено только пропускной способностью контроллера жесткого диска.Система проверяет все параметры и отображает на дисплее ошибки, которые могут происходить. Каждый шаг процесса находится под пристальным мониторингом и четко контролируется, что дает высокую воспроизводимость (повторяемость) процесса и его работоспособность. Частью пакета программного обеспечения является запись информации с возможностью дальнейшего просмотра параметров уже завершенных процессов.
  • доступно четыре режима программы:
    • редактирование для подгонки параметров или создания новых параметров для процессов,
    • запуск процесса плазмохимического осаждения с его контролем в реальном времени и выводом всех параметров на дисплей,
    • оптимизация для разработки новых процессов с помощью интерактивного контроля процесса и его редактирования,
    • режим технического обслуживания для диагностики и калибровки системы.
  • система поддерживает высокоскоростное Интернет-соединение,защищенное брандмауэром, а также соединение по VPN (виртуальной частной сети).
• Персональный компьютер под управлением ОС Windows ,укомплектованный:
  • процессором Intel Pentium ,
  • 512 Мб ОЗУ и жестким диском,
  • 17-дюймовым ЖК-монитором,
  • мышкой и клавиатурой.
• Рамку и панель для оборудования.

 

Дополнительное оборудование

Автоматический лазерный датчик окончания процесса с CCD -камерой для наблюдения за лазером (Ø25 µм) и предмета травления. Он укомплектован линзами с кратностью увеличения более 100 раз. Датчик измеряет степень травления, толщину протравленной поверхности и определяет окончание процесса. Также датчик укомплектован специальной поверхностью, двигающуюся в двух направлениях для точного позиционирования лазера.

 

Технические требования для установки Corial D 250 (L)

• Электрообеспечение системы 400 B (±10%) 3 фазы + нейтраль +заземление / 7 КВА - 50 / 60 ГЦ.
• Электрообеспечение охладителя 240 B (±10%) 1 фаза + нейтраль+ заземление / 7,5 КВА - 50 / 60 Hz .

* по умолчанию охладитель запитан от системы.

• Электрообеспечение ПК 240 В или 110 В (±10%) 1 фаза +нейтраль / 0.8 КВА - 50 / 60 Гц.
• Электрообеспечение монитора 240 В или 110 В (±10%) 1 фаза +нейтраль / 0.4 КВА - 50 / 60 Гц
• Общее энергопотребление при работе: 10,3 КВт
• Общее энергопотребление при подготовке: 3,1 КВт
• Сухой и фильтрованный азот с регулятором от 0 до 3 атм.(Предоставляется заказчиком), полиамидный шланг Ø4/6 мм.
• Сжатый воздух > 7 атм., полиамидный шланг Ø4/6 mm
• Вытяжка ≥10 м 3/ч, Через ПВХ DN 40 (Предоставляется заказчиком)
• Вытяжка для газа ≥100 м 3/ч, Через ПВХ Ø80 mm (Опция)
• Газовые линии марки 316 L с клапанами и регуляторами от 0 до 3 атм. (Предоставляется заказчиком)

* Внимание: Для газов ( SF6 , CHF3 , CF4 , и т.д.) необходима установка двух регуляторов.

• Окончание линий Ø4/6 мм с коннектором VCR «мама»
• Чистота газов – для электронной промышленности
• Дополнительно : телефонная линия ADSL (опция для удаленного доступа)