Описание:

• температура процесса от 900°C до 1400°C
• малая занимаемая площадь (1,8м2)
• нагрев до 10 К/мин
• одновременная обработка 2',3',4',6' пластин
• до 50 одновременно обрабатываемых 6' пластин
• вакуум <10-3мбар
• возможность объединения нескольких установок в линию
• диапазон рабочего давления технологического процесса (от 800мбар до атмосферного)

Высокотемпературная печь для оксидирования Oxidator 150 компании Centrotherm, была специально разработана для оксидирования карбида кремния, но также применяется для оксидирования кремния.

Благодаря конструкции трубы и нагревательного элемента  герметичной реакторной камеры и продувки загрузочного шлюза Ar или N2 возможно безопасное использование  токсичных газов, таких как NO, N2O, H2 или NO2.

Процесс оксидирования в атмосфере N2O приводит к совершенствованию поверхности раздела SiO2 / SiC, как результат - более высокая подвижность носителей заряда, улучшенная стабильность и долговечность оксидного слоя на карбиде кремния.

Centrotherm Oxidator 150 поддерживает технологию оксидирования в парах воды, с использованием системы Hydrox system или испарителя дионизованной воды.

Температура технологического процесса до 1400оС и  все остальные характеристики Oxidator 150 открывают новые возможности по оксидированию SiC и формированию оксидных слоёв с низкой плотностью межфазных ловушек и высокой подвижностью носителей заряда.

Высокотехнологичный реактор был разработан для обеспечения высокой эффективности, уменьшения занимаемой площади и снижения стоимости эксплуатации,  предлагая высочайшую технологическую гибкость, даже при безопасной работе с токсичными газами.

	Использование устройств на основе SiC приведёт к снижению парниковых газов
	Обработка SiC и Si-пластин диаметром до 150мм

 

Высокотемпературная печь Oxidator150
Модель	Oxidator 150-5	Oxidator 150-50
Размеры и количество одновременно обрабатываемых пластин	5 х 2', 5 x 3',  5 x 4',   5 x 6'	40 х 2', 50 x 3', 50 x 4', 50 x 6'
Нагревательная система	резистивный нагрев	резистивный нагрев
Технологические газы	NO, N2O, NO2, O2, H2, N2, Ar	NO, N2O, NO2, O2, H2, N2, Ar
Размеры (ДхГхВ)	2260х1463х2500мм	2260х1463х2500мм
Потребляемая мощность	максимум 25кВт	максимум 45кВт
Источник питания	400В, 40А(3ф), 50Гц	400В, 70А(3ф), 50Гц
Сухой воздух	6000-10000Па	6000-10000Па
Водяное охлаждение	25л/мин	25л/мин
Вытяжка	400м3/мин	400м3/мин

Опции 

• Загрузочный шлюз
• Регулировка давления (1-25мбар)
• Кремневый барботёр
• Роботизированная система транспортировки пластин
• Профилирование термопар 

 

Типовое применение 

• Высокотемпературный отжиг после процесса имплантации
• Обработка поверхности карбида кремния (SiC) (например, карбонизация)
• Отжиг нитрида галлия(GaN)