Описание:

• высокий уровень активации
• минимальная шероховатость поверхности
• максимальная температура 1850°C
• малая занимаемая площадь (1,8м2)
• нагрев до 250 К/мин
• одновременная обработка 2',3',4',6' пластин
• до 50 одновременно обрабатываемых 6' пластин
• вакуум <10-3мбар
• возможность объединения нескольких установок в линию

Высокотемпературная печь Activator 150 компании Centrotherm, была разработана для отжига после имплантации карбид- кремниевых (SiC) и нитрид –галлиевых (GaN) пластин. Уникальный дизайн технологического канала и нагревательной системы позволяет  достичь температуры  технологического процесса до 1850°C.

Разработка компанией  Centrotherm нового поколения печей для обработки SiC была вызвана потребностью обработки развивающегося производства  6' SiC пластин. Высокотемпературная печь Activator 150-5 была специально разработана для нужд научно-исследовательских и опытно-конструкторских разработок (НИОКР), в то время как  Activator 150-50 - для крупносерийного производства.

Высокотемпературная печь Activator 150 предлагает широкий спектр возможностей по технологической обработки SiC и GaN – пластин, разрешая оптимизацию и адаптирование процесса отжига для  ионно – легированных пластин ( SiC со структурой 3C, 4H, 6H). Это позволяет достичь наивысшей возможной степени активации пластин и их минимальной шероховатости.

Новый кремниевый барботёр (опция) используется для получения неизменных результатов обработки пластин, при использовании силана (SiH4) в процессе обработки. Высокотемпературная печь Activator 150 способна обрабатывать как структурированные пластины, так и пластины с защитным покрытием и без него. Высотехнологичный реактор был разработан для обеспечения высокой эффективности, уменьшения занимаемой площади и снижения стоимости эксплуатации, предлагая высочайшую технологическую гибкость.