Описание:

• предварительная откачка рабочей камеры с помощью мембранного насоса или спирального насоса (опция);
• управление мощностью нагрева с помощью тиристорного регулятора;
• автоматизация процесса откачки и газовой продувки камеры, позволяющая проведение процесса «по нажатию одной кнопки»;
• возможность программирования «многостадийного» процесса отжига с помощью встроенного ПИД-контроллера;
• контроль температуры рабочего столика с помощью двух термопар;
• возможность установки оптического пирометра для дополнительного контроля температуры поверхности отжигаемой пластины (опция);
• простота эксплуатации.

Установка STE RTA79 предназначена для проведения процессов быстрой температурной обработки полупроводниковых пластин в инертной среде и ориентирована как на интенсивные исследования и разработки, так и на мелкосерийный выпуск продукции в составе пилотной производственно-технологической линии. Максимальный диаметр обрабатываемой пластины составляет 100 мм. Пластина (образец) загружается в камеру вручную через боковой фланец быстрого доступа и устанавливается на тепловыравнивающий столик из пиролитического графита, под которым находится нагреватель на основе системы линейных галогеновых ламп.

Конструкция установки позволяет проводить сравнительно кратковременные процессы с температурой до 900°С и максимальной скоростью достижения заданной температуры до 40°С/сек. Продолжительность процесса отжига при максимальной температуре составляет до 10 минут. Камера из нержавеющей стали герметична и имеет интегрированное водяное охлаждение стенок. Для наблюдения за процессом отжига в ней предусмотрено кварцевое смотровое окно (используется также для установки ИК-пирометра).

Режимы работы:

• непрерывная продувка камеры инертным газом в ходе отжига образца, регулируемая с помощью ручного ротаметра;
• режим с автоматического поддержания заданного уровня давления внутри камеры.