Маска FHM Mark р-р.one size цв. Принт хаки

Оригинальная маска для защиты лица и шеи от воздействия ультрафиолета UPF 50 +. Имеются отверстия для комфортного дыхания.
Конструктивные особенности:
- Анатомический крой
- Силиконовые полоски в затылочной части для фиксации
- Лазерные отверстия для дыхания
Состав:
- 82% полиэстер
- 18% эластан
Вес: 0,05 кг
Технология:
- UPF 50+