ЭЛЕМЕНТЫ УФ СИСТЕМ Системы очистки

Оборудование производства НПО «ЛИТ» может быть оснащено системами химической и/или механической очистки.

Обе системы очистки позволяют постоянно обеспечивать должный уровень УФ интенсивности. Выбор между химической и/или механической очисткой в каждом проекте зависит от конкретных параметров воды, требований заказчика и условий эксплуатации.

Система химической очистки

Система химической очистки основана на использовании слабого раствора пищевых кислот. Очистка элементов системы и внутренних стен камеры обеззараживания происходит одновременно.

Система механической очистки

Системы механической очистки позволяют эффективно удалять различные загрязнения с поверхности кварцевых чехлов и обеспечивать непрерывную эксплуатацию УФ оборудования

Применяемые в оборудовании как пневматические, так и электромеханические приводы обеспечивают высокую надежность системы в целом.

Система регулирования мощности

УФ оборудование может быть оснащено системой регулирования мощности. Она управляет интенсивностью ламп в зависимости от параметров качества воды и расхода, позволяет контролировать и экономить потребление электроэнергии.

Система управления

Система управления на базе промышленных контроллеров регулирует УФ дозу в камере обеззараживания, а также контролирует рабочее состояние и время наработки УФ ламп. Все рабочие параметры выводятся через панель оператора. Управление УФ установкой можно легко встроить в общую систему управления очистными сооружениями с помощью различных промышленных интерфейсов.