Установка для физического осаждения из паровой фазы Applied Materials ENDURA® CIRRUS™ HTXPVD - «Научное и производственное оборудование | лабораторное оборудование | Theseus Lab» в Чехии

Установка для физического осаждения из паровой фазы Applied Materials ENDURA® CIRRUS™ HTXPVD

Под заказ
Цену уточняйте
Кредит от наших финансовых партнеров.   Детальнее
Добавить в избранное
Достижения продавца
3 года
на портале
Способы оплаты
Безналичный расчет
Способы доставки
Самовывоз, Транспортная компания
Характеристики
Основные
Производитель

Бренд, торговая марка или название предприятия-производителя, под знаком которого изготовлен товар. «Собственное производство» означает, что товар изготовлен продавцом либо не сертифицирован.

Applied Materials
Страна производитель США
Описание

Революционная технология физического осаждения из паровой фазы (PVD) тонких пленок нитрида титана (TiN) Endura Cirrus HTXTiN решает проблемы с жесткостью масок для устройств следующего поколения. Поскольку размеры микроэлементов продолжают сокращаться, инновации имеют решающее значение для точного формирования рельефов все более сложных мельчайших межсоединительных структур. Используя многолетний опыт в использовании физического осаждения из паровой фазы, новая система создает прорывную жесткую маску, которая обеспечивает точность структуры для 10-нм элементов.

 

По мере усложнения микрочипов, их габариты уменьшаются, а отношение ширины к длине увеличивается за счёт сжатия и плотной упаковки при создании передовых интегральных схем. Следовательно, надежность материалов, используемых для определения шаблонов, вытравки и металлизации для создания схем (или межсоединений) важна для сохранения целостности этих моделей. Малейший недостаток может привести к невозможности правильной металлизации устройства, что делает его ненадежным или неправильно функционирующим.

 

Нитрид титана (TiN) был стандартным материалом при изготовлении межсоединений для жесткой маски, используемым для нанесения диэлектрика с низкой диэлектрической проницаемостью. Однако, по мере того, как диэлектрик постепенно становился более пористым для снижения емкости устройства на сверхточных узлах, он становился более хрупким и восприимчивым к искажениям после травления (изменение характеристики и изменение состава, вызванные напряжением сжатия располагающейся выше маски TiN). Ослабление этого естественного напряжение сжатия привило к уменьшению плотности пленки, необходимое для противодействия процессу травления.

 

Для качественного изменения система EnduraCirrus HTX PVD использует сверхвысокочастотный источник для достижения высокой ионизации плазмы, что облегчает изменение ориентации кристаллов пленки, тем самым выбирая оптимальное соотношение между напряжением и плотностью. Полученный состав TiN достигает идеального сочетания растягивающих напряжений и высокой плотности, что приводит к лучшей селективности травления, контролю ширины линии CD и выравниванию наложения, а также точности сложных схем. Сочетание высокой однородности толщины пленки и низкой дефектности позволяет новой системе минимизировать изменчивость и производить исключительно точное формирование рельефа.

Отзывы о товаре
Об этом товаре пока что нет отзывов.
Вы можете оставить первый отзыв.
50% положительных из 28 отзывов
Актуальность цены 33%
Актуальность наличия 50%
Актуальность описания 33%
Выполнение заказа в срок 22%
  • 5
    Отлично
    Очень оперативно и полно предоставили информацию по интересующему товару
    • Цена актуальна
    • Наличие актуально
    • Описание актуально
    Комментарий компании:
    Спасибо за Ваше мнение. Надеемся на дальнейшее сотрудничество.
  • 5
    Отлично
    Я получил исчерпывающий ответ на свой вопрос
    • Цена актуальна
    • Наличие актуально
    • Описание актуально
    Комментарий компании:
    Здравствуйте. Обращайтесь, будем рады сотрудничеству.
Установка для физического осаждения из паровой фазы Applied Materials ENDURA® CIRRUS™ HTXPVD
Под заказ
Цену уточняйте